上海华力取得湿法刻蚀时采用的挡板专利，解决现有的刻蚀液飞溅问题

金融界2025年4月24日消息，国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司取得一项名为“湿法刻蚀时采用的挡板”的专利，授权公告号CN222785265U，申请日期为2024年6月。

专利摘要显示，本发明提供一种湿法刻蚀时采用的挡板，挡板包括：防反溅结构，包括：第一垂直板，第一垂直板设于晶圆的一侧，其顶端具有向晶圆延伸的第一延伸部；贯穿第一垂直板的垂直开口，垂直开口设置在从晶圆表面甩出的刻蚀液的运动轨迹上，使得刻蚀液从垂直开口穿过；水平减速板，水平减速板固定设置于第一垂直板的远离晶圆的一侧；遮挡板，遮挡板是具有小于180°夹角的曲折结构，并位于垂直开口的上方；第二垂直板，第二垂直板设于遮挡板远离晶圆的一侧，其顶端具有向遮挡板延伸的第二延伸部；外围倾斜板，外围倾斜板设于遮挡板的上方。通过本发明解决了现有的刻蚀液飞溅的问题。

天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2060次，专利信息2264条，此外企业还拥有行政许可343个。

本文源自：金融界

作者：情报员