原创 阿斯麦担心的事，还是发生了，中国光刻机另辟蹊径，取得关键突破

“中国突破了自主生产先进芯片的障碍！”，最近，《南华早报》发布的一篇报道，公布了一个振奋人心的消息，中国在西方拼命“卡脖子”的光刻机领域，取得了一项重要的研究成果。

据悉，中国科学院上海光学精密机械研究所的研究员林楠，日前带领着一支研究团队，成功建立了一个EUV光源实验平台，而且所取得的运行参数，已经达到了国际前列。

而带领团队取得这一研究成果的林楠，曾在荷兰光刻机巨头阿斯麦公司负责光源技术。

2021年，也就是美国逼迫盟友，在芯片领域限制对华出口之时，他毅然选择回国，帮助中国寻求破局之法。

光刻机是制造高精度芯片的关键

更重要的是，这次林楠团队的成果，让最喜欢污蔑中国“偷窃技术”的西方，也无话可说了。

因为，阿斯麦公司采用的是二氧化碳激光驱动技术，而林楠团队却是研究固体激光驱动技术，成功开发出LPP-EUV光源。

当然，中国跟西方的差距依旧存在，当前商用二氧化碳激光驱动的EUV光源转换效率，大约在5.5%左右，这次林楠团队所研发的固体激光驱动技术，光源转换效率大约在3.42%，大概落后西方四五年。

不过，还记得以前，西方曾讽刺中国大陆的芯片技术，起码落后西方50年，但随着这些年的发展，这个差距在他们口中，慢慢缩减到了20 年、15年，乃至现在开辟新的赛道，再次缩短了与西方的差距。

全球能制造EUV光刻机的只有阿斯麦公司